Sifat Proses
1.Proses ini stabil dan memiliki kekuatan perataan yang sangat baik, yang dapat memperoleh lapisan yang cerah dan mudah dilas.
2.Operasi galvanisasi memiliki rentang konsentrasi larutan galvanisasi yang luas dan dapat memperoleh pelapis timah pada konsentrasi logam timah yang lebih rendah.
3.Kekuatan dispersi yang baik, efisiensi arus yang tinggi, cocok untuk barrel plating dan rack plating, dengan kristal pelapis halus dan terang dan berbagai kecerahan.
4Hal ini sangat stabil dalam larutan plating, dan konsumsi dihitung dengan menambahkan dalam ampere jam.
· Formulasi Proses dan Kondisi Operasi
|
Bahan dan kondisi |
Penggunaan yang disarankan |
Jangkauan |
|
|
SnSO4 |
25 g/L |
20 ~ 30g/L |
|
|
H2Jadi4,CP |
140 g/l |
120~180 gl/L |
|
|
SN-3 Make-up |
20 ml/L |
18 ~ 25 ml/L |
|
|
SN-3 Pembersih |
1 ml/L |
0.5 ~ 2 ml/L |
|
|
Temp(°C) |
18°C |
15 ~ 25 °C |
|
|
Gerakan katode |
Rack |
20 kali/menit |
15 ~ 25 kali/menit |
|
Barel |
15 putaran/menit |
10 ~ 25 putaran/menit |
|
|
Rata-rata kepadatan arus katode(DK) |
1A/dm2 |
0.5-3A/dm2 |
|
|
Tegangan |
6 volt |
️ |
|
|
Pipa pendingin |
Tabung (polyfluoroethylene) atau tabung tembaga yang dibungkus dengan Teflon |
||
|
Filtrasi |
Filtrasi terus menerus, menggunakan kartrid filter polipropilena |
||
|
Anode |
99.99% Plat timah murni |
||
|
Kantong anode |
Tidak penting |
||
|
Mandi berlapis |
Lapisan dalam silinder terbuat dari PE dan PP, diperkuat dengan plastik PVC atau serat kaca tahan asam |
||