FI-7876 Emas murni tanpa sianida
Lapisan yang diperoleh dengan proses ini memiliki kandungan emas 99,99%, penampilan cerah, ketangguhan yang baik, kesuburan yang baik, ketahanan kontak yang rendah (0,3m Ω), ketahanan korosi yang kuat,dan dapat mempertahankan retensi warna jangka panjangSolusi plating stabil dan kecepatan plating cepat.
Digunakan untuk galvanisasi emas murni pada transistor, sirkuit terintegrasi, dan komponen semikonduktor lainnya, cocok untuk penutup gantung dan penutup rolling.